又见备胎？华为光刻设备和光刻系统专利曝光，我们选择迎难而上

半导体芯片制作分为 IC 设计、 IC 制造、 IC 封测三大环节， 光刻作为 IC 制造的核心环节，其主要作用是将掩模板上的芯片电路图转移到硅片上。 由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为 IC 制造中最复杂、最关键的工艺步骤， 光刻的核心设备——光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

光刻机想象图

那么光刻机对于我们来说有多重要呢？西方国家几十年长期封锁禁售光刻机给我们，这导致了我们不得不依赖进口芯片和海外代工厂来满足我们的需求，正因为我们没有光刻机，所以我们一直都处于半导体产业的中下游，也就是说我们的命门一直都被西方所掌控，如今M国对华为的制裁就非常清晰的告诉我们，没有光刻机你就无法做出芯片，我禁止你的代工合作，你芯片只能购买其他公司的，那么对于华为而言，本身已经成熟的IC设计部门（华为海思），甚至设计能力已经达到了世界领先水平，唯独没有IC制造能力，这是华为众多备胎计划中缺失的吗？其实并不是，华为早在2016年就申请了相关专利，我在国家知识产权局了解到，华为申请了“一种光刻设备和光刻系统”的专利。

华为光刻设备和光刻系统专利

专利中注明申请人就是华为技术有限公司，发明人为：弗洛里安·朗诺斯。专利申请时间为，2016年9月9日，也就是说华为早在4年前就开始着手光刻机产业的相关研发。

专利内容摘要： 一种光刻设备(100)和光刻系统，该光刻设备(100)包括：光开关(110)和N个光子器件(120)，光开关(110)包括N个子光开关(111，112)，N个子光开关(111，112)与N个光子器件(120,130)一一对应，N为正整数且N≥2；每个子光开关(111，112)的状态包括开启状态和关闭状态，处于开启状态的子光开关(111，112)用于将光束传输至对应的光子器件(120,130)，处于关闭状态的子光开关(111，112)不能将光束传输至对应的光子器件(120,130)；每个光子器件(120,130)包括分束装置(121,131)和聚焦透镜(122,132)。该光刻设备(100)无需改变光刻设备(100)与基材的相对位置即可制备出需要的图案，避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基材上形成的干涉图案的精确度。

华为光刻设备分析图

华为光刻设备分析图

结合之前华为在各大招聘网站的招聘信息来看，华为准备加大对光刻机领域的投入研发是毋庸置疑的，光刻机一直把持着半导体产业的命脉，这个命脉一直不是掌控在我们手里，甚至我们想买都不到，西方对我们长达几十年的封锁，各类顶尖技术的禁售，逼迫我们一次又一次寻、求自研突破，那么今天M国人用光刻机来卡我们的脖子，我们是选择妥协？还是选择继续自研突破？华为其实已经给了我们答案。

华为早前发布的招聘光刻工艺工程师截图

最后说些题外话，我国每年进口芯片超3000多亿美元，即便我们花了这么多金钱进口芯片，也没能在高端领域突破禁售，我们每年在芯片进口的花销非常巨大，据不完全统计，2018年全球芯片生产总量约4688亿美元，中国进口3120亿美元，占比2/3。

这个数据从哪里统计来的呢？看起来非常震惊。当我对这个数字寻求出处的时候，业内朋友给了我来源。

根据国家海关数据统计，2018年，中国芯片进口总量为3120亿美元，占全球集成电路5000亿美元市场规模的近60%，进口额度超过石油，位列国内进口商品第一位。面对终端需求的快速更替和技术的快速迭代，“芯片国产化”已经成为国家未来长期重要的发展战略。

芯片本身的造价其实不贵，只是因为工艺和制造设备我们没有，我们就要花天价进口回来，这就是西方人想看到的结果，他们可以不停的吸血，但是绝不允许你可以造血，所以今天我们应该明白一个道理：求人不如求己，只有自身强大，才不会被任意宰割。

结语：也许这只是一个开始，但绝对不是结尾，华为在光刻领域的研发开始加大，我国各行各业也深刻明白光刻机的迫切性，荷兰人曾嘲讽给我们图纸都未必能造出光刻机，那么我们就试试没你的图纸我们能不能把这玩意搞出来，没什么能难倒我们，光刻机也不行。

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